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ASML: fournit à Intel un système de lithographie EUV

(CercleFinance.com) - Dans le cadre d'une collaboration de longue date entre les deux partenaires, Intel annonce avoir émis son premier bon de commande à ASML pour la livraison du premier système TWINSCAN EXE:5200, un système de lithographie EUV (lithographie extrême ultraviolet) permettant de produire plus de 200 wafers (disques semi-conducteurs) par heure pour l'industrie.


Selon Martin van den Bord, président et directeur technique d'ASML, ce système offre " des améliorations lithographiques continues ", avec " une complexité, un coût et un temps de cycle et une énergie réduits ".

" L'objectif d'Intel est de rester à la pointe de la technologie de lithographie des semi-conducteurs et nous avons développé notre expertise et nos capacités EUV au cours de l'année dernière ", explique le Dr Ann Kelleher, vice-présidente exécutive et directrice générale du développement technologique chez Intel.

La prochaine étape est attendue en 2025 avec la technologie High NA et son ouverture numérique de 0,55 NA, assurent les deux partenaires.

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